高硫镍添加剂DN-66

使用特点：1、用于多层镍系统中的半光亮与光亮镍层之间的冲击镍电镀。

                 2、镀层含硫量可达0.1~0.3%

                 3、化学稳定性好，分解产物少。

                 4、与半光亮镍层之间的电位差可达160~180mv以上。

使用说明：硫酸镍：250~300克/升

                  氯化镍：35~45克/升

                  硼酸：40~50克/升

                  DN-66A开缸剂：10毫升/升

                  DN-02湿润剂：1~3毫升/升

                  PH：2~4.5成

                  温度： 50~65度

                  消耗量：DN-66B添加剂：200~250毫升/KAH